氣體的使用在半導體製程中一直扮演著重要的角色，特別是半導體製程目前已被廣泛的應用於各項產業。氣體一般區分為大宗氣體Bulk Gas，例如 N2、H2、O2、Ar 等使用量較大的氣體，和特殊氣體Specialty Gas，例如 SiH4、PH3…等供應的氣體。和淞科技氣瓶櫃通過了 SEMI S2 認證的相關要求，並提供氣體供應系統之各項設備，產品線包含 VMB、VMP、VDB、VDP、Gas Cabinet、Gas Rack、Purifier Box 及 Scrubber。以上所有產品皆可以依照客戶需求量身訂作，依照各種氣體特性不同，給予相關氣體特性諮詢，並提供完整且最有效率的解決方案 (Total Solution)。
大宗氣體供應系統(Bulk Gas System)
一般的大宗氣體 N2、O2、Ar 常用的供應方式以固定式的大型桶槽為主，以槽車定期進行填灌，高壓的液態氣體經蒸發器蒸發為氣態後，供應現場使用，若有純化的需求則需透過氣體純化器將氣體精製成生產線需求的規格使用。
特殊氣體供應系統 (Specialty Gas System)
特氣供應系統是半導體廠中危險性最高的一環，只要有任何的疏失都可能造成人員、廠房、設備的嚴重損失，例如 SiH4的自燃性，只要一洩漏就會與空氣中的氧氣起劇烈反應，開始燃燒，所以對於系統設計安全性的要求就特別高。